Data | Título | Autor(es) | Tipo | Acesso |
Abr-2009 | Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100ºC and 250ºC | Alpuim, P.; Gonçalves, L. M.; Marins, Emílio Sérgio, et al. | Artigo | Acesso aberto |
2015 | Effect of argon ion energy on the performance of silicon nitridemultilayer permeation barriers grown by hot-wire CVD on polymers | Alpuim, P.; Majee, S.; Cerqueira, M. F., et al. | Artigo | Acesso aberto |
2015 | Permeation barrier performance of Hot Wire-CVD grown silicon-nitride films treated by argon plasma | Majee, S.; Cerqueira, M. F.; Tondelier, D., et al. | Artigo | Acesso aberto |
3-Ago-2013 | The effect of argon plasma treatment on the permeation barrier properties of silicon nitride layers | Majee, Subimal; Cerqueira, M. F.; Tondelier, D., et al. | Artigo | Acesso aberto |
19-Jun-2011 | Thin-film solid-state rechargeable lithium battery | Ribeiro, J. F.; Silva, M. F.; Gonçalves, L. M., et al. | Artigo em ata de conferência | Acesso restrito UMinho |