Pesquisa avançada

.

Filtros atuais:

Usar filtros adicionais para refinar os resultados da pesquisa:

 |          

Lista de resultados: 1-10 de um total de 22 resultados (tempo de pesquisa: 0.0 segundos).
DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2015Biological behaviour of thin films consisting of Au nanoparticles dispersed in a TiO2 dielectric matrixBorges, Joel Nuno Pinto; Costa, D.; Antunes, E.; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Rodrigues, M. S.; Apreutesei, M.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Pedrosa, P.; Moura, C.; Cunha, L.; Polcar, T.; Vaz, F.; Sampaio, P.ArtigoAcesso restrito UMinho
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
25-Abr-2018Thin films of Ag–Au nanoparticles dispersed in TiO2: influence of composition and microstructure on the LSPR and SERS responsesBorges, Joel Nuno Pinto; Ferreira, Catarina Gonçalves; Fernandes, João P. C.; Rodrigues, Marco S.; Proença, Maria Manuela Carvalho; Apreutesei, Mihai; Alves, Eduardo; Barradas, Nuno P.; Moura, C.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2001Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniquesBarata, A.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
Jul-2009Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD : the effect of reactive gases partial pressureCunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Chappé, J. M.; Olteanu, C.; Munteanu, D.; Munteanu, A.ArtigoAcesso aberto
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jul-2011Characteristics of silicon doped chromium nitride coatings produced by magnetron sputtering : the influence of processing parametersCunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
1-10 de um total de 22 resultados (tempo de pesquisa: 0.0 segundos).

Descobrir