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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
25-Abr-2018Thin films of Ag–Au nanoparticles dispersed in TiO2: influence of composition and microstructure on the LSPR and SERS responsesBorges, Joel Nuno Pinto; Ferreira, Catarina Gonçalves; Fernandes, João P. C.; Rodrigues, Marco S.; Proença, Maria Manuela Carvalho; Apreutesei, Mihai; Alves, Eduardo; Barradas, Nuno P.; Moura, C.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
30-Jan-2004Effect of substrate bias voltage on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesCunha, L.; Moura, C.; Leme, J.; Andrês, G.; Pischow, K.ArtigoAcesso aberto
2010Influence of composition and structural properties in the tribological behaviour of magnetron sputtered Ti–Si–C nanostructured thin films, prepared at low temperatureMunteanu, D.; Ionescu, C.; Olteanu, C.; Munteanu, A.; Davin, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
Jun-2013Influence of thermal annealing on structural and optical properties of Au:TiO2 nanocomposite filmMarin, A.; Munteanu, D.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso restrito UMinho
1-Dez-2019Development of biocompatible plasmonic thin films composed of noble metal nanoparticles embedded in a dielectric matrix to enhance Raman signalsCosta, Diogo Emanuel Carvalho; Oliveira, João; Rodrigues, Marco S.; Borges, Joel Nuno Pinto; Moura, C.; Sampaio, Paula; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
31-Out-2011Structure and chemical bonds in reactively sputtered black Ti–C–N–O thin filmsChappé, J. M.; Marco de Lucas, M. C.; Cunha, L.; Moura, C.; Pierson, J. F.; Imhoff, L.; Heintz, O.; Potin, V.; Bourgeois, S.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
2004Raman analysis of Si–C–N films grown by reactive magnetron sputteringLiang, E. J.; Zhang, J. W.; Leme, J.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso aberto
25-Jun-2013Development of tantalum oxynitride thin films produced by PVD: study of structural stabilityCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
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