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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Abr-2008TiN-based decorative coatings : colour change by addition of C and OChappé, J. M.; Fernandes, Ana C.; Cunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Martin, N.; Munteanu, D.; Borcea, B.ArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jul-2011Characteristics of silicon doped chromium nitride coatings produced by magnetron sputtering : the influence of processing parametersCunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
25-Jun-2013Development of tantalum oxynitride thin films produced by PVD: study of structural stabilityCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
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