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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2013Photocatalytic thin films coupled with polymeric microcapsules for the controlled-release of volatile agents upon solar activationOliveira, L. Filipa; Marques, Juliana Filipa Gouveia; Coutinho, Paulo J. G.; Parpot, Pier; Tavares, C. J.Artigo em ata de conferênciaAcesso aberto
2010Development of new decorative coatings based on gold nanoparticles dispersed in an amorphous TiO2 dielectric matrixTorrell, M.; Machado, P.; Cunha, L.; Figueiredo, N. M.; Oliveira, J. C.; Louro, C.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
Jun-2013Influence of thermal annealing on structural and optical properties of Au:TiO2 nanocomposite filmMarin, A.; Munteanu, D.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso restrito UMinho
2013Electrical and photocatalytic behaviour of TAOxNy magnetron sputtered thin solid filmsCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Costa, P.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Deposition of Pd–Ag thin film membranes on ceramic supports for hydrogen purification/separationPereira, Ana Isabel; Pérez, P.; Rodrigues, S. C.; Mendes, A.; Madeira, L. M.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2014Influence of hydrogen plasma thermal treatment on the properties of ZnO:Al thin films prepared by dc magnetron sputteringCastro, Maria Freire Flores Vieira; Cerqueira, M. F.; Rebouta, L.; Alpuim, P.; Garcia, Cibeli Navarro Belletti; Júnior, G. L.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Dependence of Ga-doped ZnO thin film properties on different sputtering process parameters: Substrate temperature, sputtering pressure and bias voltageCastro, M. V.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso aberto
Fev-2013Study of vanadium doped ZnO films prepared by dc reactive magnetron sputtering at different substrate temperaturesMeng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
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