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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2011Stability of boron nitride bilayers : ground-state energies, interlayer distances, and tight-binding descriptionRibeiro, R. M.; Peres, N. M. R.ArtigoAcesso aberto
25-Jul-2011Sputter deposition of thin films on different substrate materials analyzed by means of modulated IR radiometryMacedo, Francisco; Chotikaprakhan, S.; Kijamnajsuk, Puchong; Vaz, F.; Faria Junior, Roberto; Gibkes, Juergen; Pelzl, J.; Bein, Bruno K.ArtigoAcesso restrito UMinho
2011Faraday effect in graphene enclosed in an optical cavity and the equation of motion method for the study of magneto-optical transport in solidsFerreira, Aires Francisco Lemos Gonçalves; Viana-Gomes, J.; Bludov, Yuliy V.; Pereira, V.; Peres, N. M. R.; Castro Neto, A. H.ArtigoAcesso aberto
2011Solution of the quantum harmonic oscillator plus a delta-function potential at the origin: The oddness of its even-parity solutionsViana-Gomes, J.; Peres, N. M. R.ArtigoAcesso aberto
Jul-2011Coulomb drag and high resistivity behavior in double layer graphenePeres, N. M. R.; Santos, J. M. B. Lopes dos; Castro Neto, A. H.ArtigoAcesso aberto
21-Jan-2011High-rate deposition of nano-crystalline silicon thin films on plasticsMarins, Emílio Sérgio; Guduru, Virendra; Ribeiro, Miguel; Cerqueira, M. F.; Bouattour, Ali; Alpuim, P.Artigo em ata de conferênciaAcesso aberto
2011Synthesis and characterization of VO2-based thermochromic thin films for energy-efficient windowsBatista, C.; Ribeiro, R. M.; Teixeira, Vasco M. P.ArtigoAcesso aberto
Abr-2011Tuning of the surface plasmon resonance in TiO2/Au thin films grown by magnetron sputtering : the effect of thermal annealingTorrell, M.; Kabir, R.; Cunha, L.; Vasilevskiy, Mikhail; Vaz, F.; Cavaleiro, A.; Alves, E.; Barradas, N. P.ArtigoAcesso aberto
2011Zigzag graphene nanoribbon edge reconstruction with stone-wales defectsRodrigues, João N. B.; Gonçalves, Paulo André Dias; Rodrigues, N. F. G.; Ribeiro, R. M.; Santos, J. M. B. Lopes dos; Peres, N. M. R.ArtigoAcesso aberto
Jun-2011Study of the piezoresistivity of doped nanocrystalline silicon thin filmsGaspar, J.; Gieschke, P.; Ehling, C.; Kistner, J.; Gonçalves, N. J.; Vasilevskiy, Mikhail; Paul, O.; Alpuim, P.ArtigoAcesso aberto
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