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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2013On the formation of an interface amorphous layer in nanostructured ferroelectric Ba0.8Sr0.2TiO3 thin films integrated on Pt-Si and its effect on the electrical propertiesSilva, J. P. B.; Sekhar, K. C.; Rodrigues, S. A. S.; Pereira, Mário R.; Parisini, A.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Gomes, M. J. M.ArtigoAcesso restrito UMinho
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
8-Set-2013The role of composition, structure and morphology on the electrical, optical and electrochemical responses of AlNxOy filmsBorges, Joel Nuno Pinto; Martin, N.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Eyidi, D.; Girardeau, T.; Fonseca, C.; Vaz, F.; Marques, L.Comunicação em painel Acesso aberto
Jun-2013Influence of thermal annealing on structural and optical properties of Au:TiO2 nanocomposite filmMarin, A.; Munteanu, D.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso restrito UMinho
2013Electrical and photocatalytic behaviour of TAOxNy magnetron sputtered thin solid filmsCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Costa, P.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
25-Jun-2013Development of tantalum oxynitride thin films produced by PVD: study of structural stabilityCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
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