Argamassas fotocatalíticas: influência da composição na resistência mecânica e na capacidade de auto-limpeza

Abstract

O presente artigo apresentam-se resultados relativos ao estudo conjunto de diversos parâmetros na resistência mecânica e na capacidade de auto-limpeza de argamassas fotocatalíticas. Os resultados obtidos mostram que a fim de manter a mesma consistência em todas as argamassas se torna necessário aumentar a razão w/b com a percentagem de TiO2 o que se traduz numa redução acentuada da resistência mecânica das argamassas. Os resultados mostram ainda que que as composições com 2% de TiO2 são as que apresentam uma maior capacidade de auto-limpeza.