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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2012Effect of hot-filament annealing in a hydrogen atmosphere on the electrical and structural properties of nb-doped TiO2 sputtered thin filmsTavares, C. J.; Castro, Maria Freire Flores Vieira; Marins, Emílio Sérgio; Samantilleke, A. P.; Ferdov, S.; Rebouta, L.; Cerqueira, M. F.; Alpuim, P.; Xuriguera, E.; Rivière, J. P.; Eyidi, D.; Beaufort, Marie France; Mendes, A.; Benelmekki, M.ArtigoAcesso restrito UMinho
7-Abr-2005Optimization and thermal stability of TiAlN-Mo multilayersTavares, C. J.; Vidrago, C.; Rebouta, L.; Le Bourhis, E.; Rivière, J. P.; Denanot, M. F.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
28-Jul-2004Atomic environment and interfacial structural order of TiAlN/Mo multilayersTavares, C. J.; Rebouta, L.; Rivière, J. P.; Girardeau, T.; Goudeau, Ph.; Alves, E.; Barradas, N. P.ArtigoAcesso aberto
2-Dez-2002Physical and morphological characterization of reactively magnetron sputtered TiN filmsVaz, F.; Machado, P.; Rebouta, L.; Mendes, J. A.; Lanceros-Méndez, S.; Cunha, L.; Nascimento, Sérgio M. C.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.; Alves, E.; Sidor, A.ArtigoAcesso aberto
2009Structural evolution of Ti-Al-Si-N nanocomposite coatingCarvalho, S.; Rebouta, L.; Ribeiro, E.; Vaz, F.; Tavares, C. J.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2008Effect of the microstructure on the cutting performance of superhard (Ti, Si, Al)N nanocomposite filmsFernandes, C.; Carvalho, S.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Denannot, M. F.; Pacaud, J.; Rivière, J. P.; Cavaleiro, A.ArtigoAcesso aberto
8-Ago-2008Effect of thermal treatments on the structure of MoNxOy thin filmsCunha, L.; Rebouta, L.; Vaz, F.; Staszuk, M.; Malara, S.; Barbosa, J.; Carvalho, P.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
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