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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
Jul-2010Effect of the deposition rate on ITO thin films properties prepared by ion beam assisted deposition (IBAD) techniqueMeng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jul-2011Characteristics of silicon doped chromium nitride coatings produced by magnetron sputtering : the influence of processing parametersCunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A.; Munteanu, D.; Crăciun, D.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2010AlNxOy thin films deposited by DC reactive magnetron sputteringBorges, Joel Nuno Pinto; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
15-Out-2013Influence of ag content on mechanical and tribological behavior of DLC coatingsManninen, N. K.; Ribeiro, F.; Escudeiro, A.; Polcar, T.; Carvalho, S.; Cavaleiro, A.ArtigoAcesso aberto
12-Mai-2017Multilayer design of CrN/MoN protective coatings for enhanced hardness and toughnessPostolnyi, B. O.; Beresnev, V. M.; Abadias, G.; Bondar, O. V.; Rebouta, L.; Araujo, J. P.; Pogrebnjak, A. D.ArtigoAcesso aberto
25-Jun-2013Development of tantalum oxynitride thin films produced by PVD: study of structural stabilityCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
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