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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2002Produção e caracterização de revestimentos nanoestruturados em multicamadas de TiAlN/MoTavares, C. J.Tese de doutoramentoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2001Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniquesBarata, A.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
Jul-2009Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD : the effect of reactive gases partial pressureCunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Chappé, J. M.; Olteanu, C.; Munteanu, D.; Munteanu, A.ArtigoAcesso aberto
7-Abr-2005Optimization and thermal stability of TiAlN-Mo multilayersTavares, C. J.; Vidrago, C.; Rebouta, L.; Le Bourhis, E.; Rivière, J. P.; Denanot, M. F.ArtigoAcesso aberto
2004Corrosion resistance of ZrNxOy thin films obtained by rf reactive magnetron sputteringAriza, E.; Rocha, L. A.; Vaz, F.; Cunha, L.; Ferreira, S. C.; Carvalho, P.; Rebouta, L.; Alves, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
28-Jul-2004Atomic environment and interfacial structural order of TiAlN/Mo multilayersTavares, C. J.; Rebouta, L.; Rivière, J. P.; Girardeau, T.; Goudeau, Ph.; Alves, E.; Barradas, N. P.ArtigoAcesso aberto
2009The role of modulated IR radiometry measurements in the characterization of Zr-O-N thin filmsMacedo, Francisco; Carvalho, Pedro; Cunha, L.; Vaz, F.; Gibkes, Juergen; Bein, Bruno K.; Plezl, JosefArtigoAcesso aberto
Jul-2009Study of indium tin oxide thin films deposited on acrylics substrates by Ion beam assisted deposition techniqueMeng Lijian; Liang Erjun; Gao Jinsong; Teixeira, Vasco M. P.; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
2-Jul-2009Influence of concentration of vanadium in zinc oxide on structural and optical properties with lower concentrationWang Li-Wei; Xu Zheng; Meng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Song Shigeng; Xu Xu-RongArtigoAcesso aberto
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