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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
30-Jan-2004Effect of substrate bias voltage on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesCunha, L.; Moura, C.; Leme, J.; Andrês, G.; Pischow, K.ArtigoAcesso aberto
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
Abr-2008TiN-based decorative coatings : colour change by addition of C and OChappé, J. M.; Fernandes, Ana C.; Cunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Martin, N.; Munteanu, D.; Borcea, B.ArtigoAcesso aberto
Jul-2009Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD : the effect of reactive gases partial pressureCunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Chappé, J. M.; Olteanu, C.; Munteanu, D.; Munteanu, A.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2001Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniquesBarata, A.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2004Raman analysis of Si–C–N films grown by reactive magnetron sputteringLiang, E. J.; Zhang, J. W.; Leme, J.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
2009Study on the thermal stability of Ti(C,O,N) decorative coatingsMoura, C.; Cunha, L.; Chappé, J. M.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
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