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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
30-Jan-2004Effect of substrate bias voltage on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesCunha, L.; Moura, C.; Leme, J.; Andrês, G.; Pischow, K.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
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