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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
15-Out-2015Study of the electrical behavior of nanostructured Ti–Ag thin films, prepared by glancing angle depositionLopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Pedrosa, P.; Martin, N.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Electrochemical and structural characterization of nanocomposite Agy:TiNx thin films for dry bioelectrodes: the effect of the N/Ti ratio and Ag contentPedrosa, Paulo Eduardo Teixeira Baptista; Machado, D.; Fiedler, P.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Haueisen, J.; Vaz, F.; Fonseca, C.ArtigoAcesso restrito autor
2015Biological behaviour of thin films consisting of Au nanoparticles dispersed in a TiO2 dielectric matrixBorges, Joel Nuno Pinto; Costa, D.; Antunes, E.; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Rodrigues, M. S.; Apreutesei, M.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Pedrosa, P.; Moura, C.; Cunha, L.; Polcar, T.; Vaz, F.; Sampaio, P.ArtigoAcesso restrito UMinho
Set-2012Influence of annealing conditions on formation of regular lattices of voids and Ge quantum dots in amorphous alumina matrixPinto, S. R. C.; Buljan, Maja; Marques, L.; Martín-Sánchez, J.; Chahboun, A.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Bernstorff, S.; Ramos, Marta M. D.; Gomes, M. J. M.ArtigoAcesso aberto
Jun-2012Electrical properties of AlNxOy thin films prepared by reactive magnetron sputteringBorges, Joel Nuno Pinto; Martin, N.; Barradas, Nuno P.; Alves, E.; Eyidi, D.; Beaufort, Marie France; Riviere, J. P.; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
2010Effect of grain size and hydrogen passivation on the electrical properties of nanocrystalline silicon filmsCerqueira, M. F.; Semikina, T. V.; Baidus, N. V.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2010Crystal size and crystalline volume fraction effects on the Erbium emission of nc-Si:Er grown by r.f. sputteringCerqueira, M. F.; Stepikhova, M.; Kozanecki, A.; Andrês, G.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2011Influence of the deposition parameters on the growth of SiGe nanocrystals embedded in Al2O3 matrixVieira, E. M. F.; Pinto, S. R. C.; Levichev, S.; Rolo, Anabela G.; Chahboun, A.; Buljan, M.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Bernstorff, S.; Conde, O.; Gomes, M. J. M.ArtigoAcesso restrito UMinho
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A.; Abreu, C. S.; Gomes, J. R.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Moura, C.; Vaz, F.; Cunha, L.ArtigoAcesso restrito UMinho
2011Resonant raman scattering in ZnO : Mn and ZnO: Mn : Al thin films grown by RF sputteringCerqueira, M. F.; Vasilevskiy, Mikhail; Oliveira, Fernando; Rolo, Anabela G.; Viseu, T. M. R.; Campos, J. Ayres de; Alves, E.; Correia, RosárioArtigoAcesso aberto
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