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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
10-Jul-2015Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputteringCristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N.; Borges, Joel Nuno Pinto; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Cunha, L.; Ion, V.; Dinescu, M.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Munteanu, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
2014Optimisation of surface treatments of TiO2:Nb transparent conductive coatings by a post-hot-wire annealing in a reducing H2 atmosphereCastro, Maria Freire Flores Vieira; Rebouta, L.; Alpuim, P.; Cerqueira, M. F.; Benelmekki, M.; Garcia, Cibeli Navarro Belletti; Alves, E.; Barradas, N. P.; Xuriguera, E.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2010Effect of grain size and hydrogen passivation on the electrical properties of nanocrystalline silicon filmsCerqueira, M. F.; Semikina, T. V.; Baidus, N. V.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
Jun-2012Electrical properties of AlNxOy thin films prepared by reactive magnetron sputteringBorges, Joel Nuno Pinto; Martin, N.; Barradas, Nuno P.; Alves, E.; Eyidi, D.; Beaufort, Marie France; Riviere, J. P.; Vaz, F.; Marques, L.ArtigoAcesso aberto
Dez-2015Multifunctional Ti–Me (Me=Al, Cu) thin film systems for biomedical sensing devicesLopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Vieira, M.; Borges, Joel Nuno Pinto; Fernandes, J.; Rodrigues, M. S.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Apreutesei, M.; Steyer, P.; Tavares, C. J.; Cunha, L.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
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