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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2015Dependence of Ga-doped ZnO thin film properties on different sputtering process parameters: Substrate temperature, sputtering pressure and bias voltageCastro, M. V.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso aberto
2014Optimisation of surface treatments of TiO2:Nb transparent conductive coatings by a post-hot-wire annealing in a reducing H2 atmosphereCastro, Maria Freire Flores Vieira; Rebouta, L.; Alpuim, P.; Cerqueira, M. F.; Benelmekki, M.; Garcia, Cibeli Navarro Belletti; Alves, E.; Barradas, N. P.; Xuriguera, E.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2014Influence of hydrogen plasma thermal treatment on the properties of ZnO:Al thin films prepared by dc magnetron sputteringCastro, Maria Freire Flores Vieira; Cerqueira, M. F.; Rebouta, L.; Alpuim, P.; Garcia, Cibeli Navarro Belletti; Júnior, G. L.; Tavares, C. J.ArtigoAcesso restrito UMinho
2009Structural and electrical properties of Al doped ZnO thin films deposited at room temperature on poly(vinilidene fluoride) substratesOliveira, C.; Rebouta, L.; de Lacerda-Arôso, T.; Lanceros-Méndez, S.; Viseu, T. M. R.; Tavares, C. J.; Tovar, J.; Ferdov, S.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2018Tuning electrical resistivity anisotropy of ZnO thin films for resistive sensor applicationsFerreira, Armando José Barros; Martin, Nicolas; Lanceros-Méndez, S.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
Dez-2015Multifunctional Ti–Me (Me=Al, Cu) thin film systems for biomedical sensing devicesLopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Vieira, M.; Borges, Joel Nuno Pinto; Fernandes, J.; Rodrigues, M. S.; Alves, E.; Barradas, N. P.; Apreutesei, M.; Steyer, P.; Tavares, C. J.; Cunha, L.; Vaz, F.ArtigoAcesso restrito UMinho
10-Jul-2015Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputteringCristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N.; Borges, Joel Nuno Pinto; Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro; Cunha, L.; Ion, V.; Dinescu, M.; Barradas, N. P.; Alves, E.; Apreutesei, M.; Munteanu, D.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jul-2010Effect of the deposition rate on ITO thin films properties prepared by ion beam assisted deposition (IBAD) techniqueMeng Lijian; Teixeira, Vasco M. P.; Santos, M. P. dosArtigoAcesso aberto
2012Effect of hot-filament annealing in a hydrogen atmosphere on the electrical and structural properties of nb-doped TiO2 sputtered thin filmsTavares, C. J.; Castro, Maria Freire Flores Vieira; Marins, Emílio Sérgio; Samantilleke, A. P.; Ferdov, S.; Rebouta, L.; Cerqueira, M. F.; Alpuim, P.; Xuriguera, E.; Rivière, J. P.; Eyidi, D.; Beaufort, Marie France; Mendes, A.; Benelmekki, M.ArtigoAcesso restrito UMinho
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