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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2018In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolutionCunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Investigations on magnetron sputtered tantalum oxynitride thin filmsCristea, D.; Cunha, L.; Patru, M., et al.Artigo em ata de conferênciaAcesso restrito UMinho
2015Overview on magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films – structures and propertiesCristea, D.; Cunha, Luís; Crișan, A., et al.Artigo em ata de conferênciaAcesso restrito UMinho
4-Out-2023Photocatalytical and corrosion behavior of sputtered zirconium oxynitride thin films doped with titaniumCristea, D.; Scărlătescu, A. I.; Croitoru, C., et al.ArtigoAcesso restrito autor
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Structural, mechanical and piezoelectric properties of polycrystalline AlN films sputtered on titanium bottom electrodesPătru, M.; Isac, L.; Cunha, L., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
10-Jul-2015Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputteringCristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2014Tantalum oxynitride thin films: mechanical properties and wear behavior dependence on growth conditionsCristea, D.; Crisan, A.; Munteanua, D., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
Jun-2021The effect of vacuum and air annealing in the physical characteristics and photocatalytic efficiency of In2S3:Ag thin films produced by spray pyrolysisTiss, B.; Benfraj, M.; Bouguila, N., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho