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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
3-Ago-2013The effect of argon plasma treatment on the permeation barrier properties of silicon nitride layersMajee, Subimal; Cerqueira, M. F.; Tondelier, D.; Geffroy, B.; Bonnassieux, Y.; Alpuim, P.; Bourée, J. E.ArtigoAcesso aberto
2015Permeation barrier performance of Hot Wire-CVD grown silicon-nitride films treated by argon plasmaMajee, S.; Cerqueira, M. F.; Tondelier, D.; Vanel, J. C.; Geffroy, B.; Bonnassieux, Y.; Alpuim, P.; Bourée, J. E.ArtigoAcesso aberto
2015Flexible organic–inorganic hybrid layer encapsulation for organic opto-electronic devicesMajee, Subimal; Cerqueira, M. F.; Tondelier, Denis; Geffroy, Bernard; Bonnassieux, Yvan; Alpuim, P.; Bourée, Jean EricArtigoAcesso aberto
2014Influence of low energy argon plasma treatment on the moisture barrier performance of hot wire-CVD grown SiNx multilayersMajee, Subimal; Cerqueira, M. F.; Tondelier, Denis; Geffroy, Bernard; Bonnassieux, Yvan; Alpuim, P.; Bourée, Jean EricArtigoAcesso aberto
2015Effect of argon ion energy on the performance of silicon nitridemultilayer permeation barriers grown by hot-wire CVD on polymersAlpuim, P.; Majee, S.; Cerqueira, M. F.; Tondelier, D.; Geffroy, B.; Bonnassieux, Y.; Bourée, J. E.ArtigoAcesso aberto
Abr-2009Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100ºC and 250ºCAlpuim, P.; Gonçalves, L. M.; Marins, Emílio Sérgio; Viseu, T. M. R.; Ferdov, S.; Bourée, J. E.ArtigoAcesso aberto
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