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Data | Título | Autor(es) | Tipo | Acesso |
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Jul-2009 | Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD : the effect of reactive gases partial pressure | Cunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Chappé, J. M.; Olteanu, C.; Munteanu, D.; Munteanu, A. | Artigo | Acesso aberto |
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Data de publicação
- 1 2009