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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
2011Si doped and undoped chromium nitride coatings: a comparative study of physical propertiesCunha, L.; Moura, C.Resumo em ata de conferência Acesso aberto
3-Jan-2006Properties of MoNxOy thin films as a function of N/O ratioBarbosa, José Gusman; Cunha, L.; Rebouta, L.; Moura, C.; Vaz, F.; Carvalho, S.; Alves, E.; Le Bourhis, E.; Goudeau, Ph.; Rivière, J. P.ArtigoAcesso aberto
2010Influence of composition and structural properties in the tribological behaviour of magnetron sputtered Ti–Si–C nanostructured thin films, prepared at low temperatureMunteanu, D.; Ionescu, C.; Olteanu, C.; Munteanu, A.; Davin, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
31-Out-2011Structure and chemical bonds in reactively sputtered black Ti–C–N–O thin filmsChappé, J. M.; Marco de Lucas, M. C.; Cunha, L.; Moura, C.; Pierson, J. F.; Imhoff, L.; Heintz, O.; Potin, V.; Bourgeois, S.; Vaz, F.ArtigoAcesso aberto
30-Jun-2008Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputteringChappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.ArtigoAcesso aberto
2006Raman spectra and structural analysis in ZrOxNy thin filmsMoura, C.; Carvalho, P.; Vaz, F.; Cunha, L.; Alves, E.ArtigoAcesso aberto
2003Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesMoura, C.; Cunha, L.; Orfão, H.; Pischow, K.; De Rijk, J.; Rybinski, M.; Mrzyk, D.ArtigoAcesso aberto
2004Raman analysis of Si–C–N films grown by reactive magnetron sputteringLiang, E. J.; Zhang, J. W.; Leme, J.; Moura, C.; Cunha, L.ArtigoAcesso aberto
2001Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniquesBarata, A.; Cunha, L.; Moura, C.ArtigoAcesso aberto
30-Jan-2004Effect of substrate bias voltage on amorphous Si–C–N films produced by PVD techniquesCunha, L.; Moura, C.; Leme, J.; Andrês, G.; Pischow, K.ArtigoAcesso aberto
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