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TítuloMicrostrucure and thermal features a-Si:H and nc-Si:H thin films produced by r.f. sputtering
Autor(es)Thaiyalnayaki, V.
Cerqueira, M. F.
Macedo, Francisco
Ferreira, J. A.
Palavras-chaveNanocrystalline silicon
Thermal properties
Structure
Data2006
EditoraTrans Tech Publications
RevistaMaterials Science Forum
Resumo(s)Amorphous and nanocrystalline silicon thin films have been produced by reactive r.f. sputtering and their microstructure, optical and thermal properties were evaluated. A good correlation was found between the microstructure determined by Raman spectroscopy and X-ray diffraction and the thermal transport parameters
TipoArtigo em ata de conferência
URIhttps://hdl.handle.net/1822/13970
ISBN9780878494026
ISSN0255-5476
Versão da editorahttp://www.scientific.net/MSF.514-516.23
Arbitragem científicayes
AcessoAcesso aberto
Aparece nas coleções:CDF - CEP - Artigos/Papers (with refereeing)
CDF - FMNC - Artigos/Papers (with refereeing)

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