Percorrer por assunto Tantalum oxynitride

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DataTítuloAutor(es)TipoAcesso
3-Set-2015Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parametersCristea, D.; Pătru, M.; Crisan, A., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
25-Jun-2013Development of tantalum oxynitride thin films produced by PVD: study of structural stabilityCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2013Electrical and photocatalytic behaviour of TAOxNy magnetron sputtered thin solid filmsCristea, D.; Crisan, A.; Barradas, N. P., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2018In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolutionCunha, L.; Apreutesei, M.; Moura, C., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2015Investigations on magnetron sputtered tantalum oxynitride thin filmsCristea, D.; Cunha, L.; Patru, M., et al.Artigo em ata de conferênciaAcesso restrito UMinho
Dez-2013Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: the influence of processing parametersCristea, D.; Constantin, D. G.; Crisan, A., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
10-Jul-2015Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputteringCristea, D.; Crisan, A.; Cretu, N., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho
2014Tantalum oxynitride thin films: mechanical properties and wear behavior dependence on growth conditionsCristea, D.; Crisan, A.; Munteanua, D., et al.ArtigoAcesso restrito UMinho